稀土抛光粉已被广泛应用到玻璃深加工领域的最终抛光. 如平板玻璃, 光学玻璃, 导电玻璃, 超薄玻璃, 荧光屏(玻壳)等各种玻璃镜头, 镜片和水晶制品的抛光。
本公司生产的抛光粉是性能最优良的抛光剂, 各种物化性能和技术指标均优于日本NEG抛光粉和国内其它产品, 抛光效率是日本NEG抛光粉的2.5-6.6倍。
其主要特点如下:
1、抛光粉使用量少, 在低浓度下能达到最佳的抛光效果(只是同比产品的1/3-1/2左右); 研磨能力强, 抛光速度快, 无划伤, 无光道 (建议抛光粉浓度在使用机械抛时50g/升, 手工抛时浓度可适度加大)
2、氧化铈含量高, 粒度细, 分布合理, 比表面积大, 使用寿命长. 适用于各种不同玻璃的抛光。
3、抛光过程中, 附着力强, 易清洗, 不产生泡沫, 悬浮性好, 不易沉降, 久置(即沉降多日)再用时容易搅起.
4、PH值呈中性, 不污染环境, 无异味, 不怕潮, 可长期存放不变质。
产品:
稀土系例抛光粉适用于特种陶瓷、玻璃、光电子、催化剂、功能橡胶塑料、功能涂料、功能纺织品等产业提供服务.
化 学 式: CeO2 规 格: 稀土总量(REO)≥85% 氧化铈占稀土总量(CeO2/REO)≥55% 外 观: 浅黄红色粉末 粒 径: 中心粒径 D50 0.9um D97 3.99um 最大粒径 10.0um 平均粒径 D50 1.18um F : 8.03% 包 装: 塑胶袋 5kg/袋 纸 箱 20-25kg 纸 筒 40-50kg 以上均为净重 使用方法: 把本产品配制成浓度3-5%, 25C左右的浆液使用. 悬 浮: 一般 | |
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